牛津仪器集团成员
扩展

基于金刚石的量子系统的解决方案:NV色心

了解我们在制备基于金刚石的量子器件等离子体体刻蚀解决方案方面的专业技术。

用于量子的等离子体体增强刻蚀解决方案

我们为金刚石量子应用提供一系列刻蚀(ICP刻蚀;RIE)和沉积(ALD;PECVD)解决方案。其中包括减薄金刚石以改善对NV色心的操控,以及构造金刚石以实现量子信息和传感领域的新应用。

我们提供三种量子金刚石制备解决方案:

  • 金刚石表面和特征的等离子体体刻蚀
  • 等离子体体刻蚀以创建有效的光收集表面
  • SiNx硬掩膜沉积,例如Si3N4
下载宣传手册

NV色心的金刚石等离子体体刻蚀

制备薄金刚石膜或进行表面刻蚀,以有效探测埋藏的NV色心

采用三步RIE工艺,使NV色心更接近表面,同时通过氧端修饰提供额外的保护,从而实现量子信息的改进操作或存储。

1)各向同性颗粒去除

2)金刚石大块刻蚀,在 NV 色心几微米范围内精确停止

3)表面氧端修饰以提高NV色心的稳定性

表面特性:

  • 光滑表面Ra < 0.3纳米
  • 低损伤/污染
  • 可能在表面进行成型/微透镜制造
请求更多信息
Image showing SEMS with pre-etch Image showing SEMS with pre-etch

三步RIE工艺,可制造出无缺陷、光滑的带氧端面的金刚石表面。

用于创建高效光耦合元件的等离子体体刻蚀

光子晶体和腔体有助于高效提取金刚石中的信号

将光子晶体、纳米腔体和波导与量子发射体耦合,以改善光子产生、提高光提取效率并实现量子信息的远距离传输。

光机械微盘谐振器可增强自旋-光子耦合,实现更灵活的量子信息操作,并为各种量子平台提供接口。

  • PECVD用于沉积Si3N4,以用作硬掩膜的沉积
  • ICP RIE用于刻蚀Si3N4硬掩膜层(使用CF4/SF6气体混合物),以制作掩膜的图案。
  • ICP RIE法刻蚀金刚石
  • 使用等离子体体ALD)的方法对表面进行Al2O3薄膜的钝化处理。
请求更多信息
Photonic crystals large SEM

金刚石中的光子晶体(图片来源:S. Bogdanovic,TU Delft)

金刚石量子应用系统

我们的PlasmaPro 100平台能够实现对各种材料的高精度沉积和刻蚀,以满足量子器件的需求。FlexAL原子层沉积(ALD)系统可提供一系列经过优化的高质量ALD工艺。

我们的PlasmaPro 100 RIE能够快速刻蚀大块材料,同时确保表面可控、无残留/污染,表面粗糙度极低(通常低于3A),以限制噪声和光学损耗,同时采用氧端修饰为浅层量子比特提供额外保护。

我们为当今的量子技术研发和器件开发中的各种方法提供了关键的加工解决方案,以解决各种器件制造挑战。

下载产品宣传手册 请求更多信息

与领先的机构和公司合作开发。

University of Warwick logo
elementsix logo
University of Oxford logo
University of Strathclyde Glasgow logo

更多量子技术解决方案

相关内容


相关产品

沪ICP备17031777号-1 公安机关备案号31010402003473