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OpAL

OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。

  • 紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子选项

  • 适用于小尺寸至200mm的晶圆片

  • 蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体

  • 实时检测选项,包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪


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  • ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。

  • 实时监测选项,包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪。
  • OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。

牛津仪器有大量的工艺储备,并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持,我们还将为您提供关于开发新材料的建议,同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。

可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境

易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间

机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺

气动起重装置 - 用于安全打开腔室

可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺

  • 纳米电子
  • 高K栅氧化物
  • 存储电容电介质
  • 用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
  • 用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
  • 用于晶体硅太阳能电池的钝化
  • 用于微流体和MEM的高保形涂层
  • 纳米多孔结构的涂层
  • 生物MEMS
  • 燃料电池
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