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尽管许多技术被认为可以提供真正的沉浸式AR体验，但是波导方案由于其高视场优势，而受到了Microsoft Hololens和Vuzix等主要厂商的青睐。
我们在大面积刻蚀倾斜光栅方面拥有多年的专业知识和丰富经验，始终致力于为客户提供高产量、高质量的制备工艺解决方案。
同时，我们提供一定倾角范围内的光栅刻蚀工艺，以支持制造商实现器件的最佳光学效率。
我们的Ionfab系统针对IBE工艺进行了特殊配置，可在尺寸高达200mm的晶圆上提供市场领先的刻蚀均匀性。
我们的专有离子束技术和专利网格设计，使我们能够以极佳的精度生产标准45°倾斜光栅，加工能力涵盖了各种材料，例如Si和SiO2。
群集式系统可供客户选择。此系统利用高度可靠并经实际验证的真空传送机械臂，实现多个分立系统的一体化。
出色的工艺可重复性和较低的设备成本使Ionfab成为从研发到批量生产都可配置的卓越系统。
晶圆被放置在一个与离子源成一定角度的衬底支架上。通过调整支架的角度，实现精确定义的倾斜角度刻蚀。
牛津仪器致力于提供灵活、可靠和多方位的全球客户支持。我们在您系统的整个生命周期内提供优质的服务。
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