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Ionfab 离子束

Ionfab是我们针对增强现实(AR)应用中刻蚀倾斜表面浮雕光栅的最新工艺解决方案。

  • 卓越的大面积均匀性、高产量制造
  • 刻蚀角度>45°,可实现高效率光栅耦合器
  • 面向一系列器件设计的工艺灵活性
  • 精确定义具有高度对称结构的倾斜光栅
  • 工艺的可扩展性已在200mm晶圆上得到验证
  • 采用牛津仪器的创新技术(申请专利中),对一定范围内的光栅倾斜角进行高度均匀性刻蚀

满足AR应用的高精度和可扩展性

尽管许多技术被认为可以提供真正的沉浸式AR体验,但是波导方案由于其高视场优势,而受到了Microsoft Hololens和Vuzix等主要厂商的青睐。

我们在大面积刻蚀倾斜光栅方面拥有多年的专业知识和丰富经验,始终致力于为客户提供高产量、高质量的制备工艺解决方案。

同时,我们提供一定倾角范围内的光栅刻蚀工艺,以支持制造商实现器件的最佳光学效率。

高产量器件制备

我们的Ionfab系统针对IBE工艺进行了特殊配置,可在尺寸高达200mm的晶圆上提供市场领先的刻蚀均匀性。

我们的专有离子束技术和专利网格设计,使我们能够以极佳的精度生产标准45°倾斜光栅,加工能力涵盖了各种材料,例如Si和SiO2。

群集式系统可供客户选择。此系统利用高度可靠并经实际验证的真空传送机械臂,实现多个分立系统的一体化。

SiO2 slanted gratings AR SEM
Cr AR SEm

卓越的离子束刻蚀系统

出色的工艺可重复性和较低的设备成本使Ionfab成为从研发到批量生产都可配置的卓越系统。

主要优势

  • 灵活配置,适用于高精尖研究应用
  • 市场领先的刻蚀均匀性和工艺可重复性
  • 灵活的晶圆处理能力–单片晶圆Load-lock处理或腔对腔自动化机械臂传送
  • 出色的大面积均匀性及高产量
  • 精确定义具有高度对称结构的倾斜光栅
IBE processing chamber schematic

晶圆被放置在一个与离子源成一定角度的衬底支架上。通过调整支架的角度,实现精确定义的倾斜角度刻蚀。

全球客户支持

牛津仪器致力于提供灵活、可靠和多方位的全球客户支持。我们在您系统的整个生命周期内提供优质的服务。

  • 远程诊断软件提供快速、便捷的故障诊断和解决方案
  • 根据客户预算和实际情况,定制服务支持协议
  • 在战略位置提供全球备件,以便快速响应

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