PlasmaPro 1000

大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案

LED工业要求高产量，高器件质量和低购置成本。 PlasmaPro 1000更好地解决了这些需求。

PlasmaPro 1000设备能为LED生产商提供更好的行业优势

490mm电极 - 更为先进的批量规模，多达7 x 6”晶圆，提供了更高的产量

可靠的硬件系统易维护性 - 出色的正常运转时间

最大化压盘 - 增强晶圆冷却

Z向可移动电极 - 更好的均匀性

双进气口 - 易于工艺调整

特殊的载盘设计 - 每片晶圆在最小的边缘去除区域之内，均获得有效的冷却，且易于使用和维护

高导通的径向（轴对称）抽气结构 - 确保提升了工艺均匀性和速率

选项

PlasmaPro 1000 Astrea

PlasmaPro1000 Astrea专为LED材料所需的苛刻的化学成分而设计，在大批产晶圆上实现了高刻蚀速率和高度均匀性。在设计硬件时也考虑到了正常运转时间和易维护性。

PlasmaPro 1000 Stratum PECVD system

PlasmaPro 1000 Stratum PECVD 专为 LED 生产中的钝化沉积工艺而开发。其大面积电极和优化了的喷头设计, 允许一次承载多达61 x 2 ", 15 x 4" 或 7 x 6 "的晶圆。