牛津仪器集团成员
扩展

ICP 刻蚀系统

Cobra® ICP刻蚀源能在低气压下产生高密度的反应组分。衬底的直流偏压由一个射频发生器独立控制, 允许根据工艺要求控制离子的能量。

产品

沪ICP备17031777号-1 公安机关备案号31010402003473