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PlasmaPro 100 Nano

PlasmaPro 100 Nano
PlasmaPro 100 Nano
PlasmaPro 100 Nano

用于生长1D / 2D纳米材料和异质结构的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通过在线催化剂活化和严格的工艺控制，实现纳米材料的高性能生长。

  • 更佳的均匀性以及灵活的温度范围， 最高可达1200°C

  • 700°C、800°C或1200°C工作台可供选择

  • 样品尺寸可达200mm

  • 真空传送腔——快速更换样品

  • 冷壁设计并辅以可均匀输送气体/液体源前驱体的喷头

  • 可选的液体/固体源前驱体输送系统，用于生长MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料


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CVD growth of hBN
CVD growth of MoS2
Graphene domains on Copper foil
二维材料的生长与表征
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全球客户支持

牛津仪器致力于提供全方位、灵活且可靠的全球客户支持服务。我们将为您所拥有的系统在其整个运行周期中持续提供优质的服务。

  • 远程诊断软件提供快速便捷的故障诊断及其解决方案
  • 根据预算和实际需求制定个性化服务支持
  • 在战略位置储备全球备件，以便快速响应
了解更多

新增: PTIQ软件

PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab工艺系统而开发的最新智能软件解决方案。

● 对响应系统出色的控制水平

● 最大化系统性能与工艺性能

● 多级别软件配置以匹配用户需求

● 全新的视觉布局与设计界面

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升级/配件

气柜 —— 包含额外的气体管线，提供更大的灵活性

涡轮分子真空泵 —— 提供泵送速度加快气体的流动速度

光学终点探测—— 实现更好工艺结果的重要工具

TEOS液位传感 —— 使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感

相关应用

纳米材料生长和表征制造光发射装置制造和表征生物微机电制造

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