Reactive Ion Etch / Plasma Enhanced (RIE/PE)

RIE/PE  在同一设备上有两种简单的等离子体生成技术。

利用反应离子刻蚀，可以实现速率更快的定向刻蚀，因为样品所在的表面具有能够从等离子体中吸引离子的加速电压。等离子体增强型刻蚀没有加速电压因而产生各向同性刻蚀。