PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。
高性能工艺
准确的衬底温度控制
准确的工艺控制
成熟的300mm单晶圆失效分析工艺
PlasmaPro 800具有460mm直径的工作台,拥有处理整片的300mm晶圆或批量43 x 50mm(2”)晶圆的能力, 可提供全套量产解决方案。PlasmaPro 800是公认的市场前列产品。
为化合物半导体、光电子和光子学应用提供了最大的工艺灵活性,PlasmaPro 800 可提供:
大型下电极 - 低成本
刻蚀终点监测 - 可靠性和可维护性俱佳
通过激光干涉仪与/或发射光谱进行终点监测 - 增强刻蚀控制
可选择带有4-、8-或12-条气路的气柜 - 可提供灵活的工艺和工艺气体,可以与主机分离,放置在远端服务区
近距离耦合涡轮泵 - 提供优越的泵送速度加快气体的流动速度
数据记录 - 追溯腔室的历史状态以及工艺条件
液体冷却和/或电加热电极 - 出色的电极温度控制和稳定性
牛津仪器致力于提供全方位、灵活且可靠的全球客户支持服务。我们将为您所拥有的系统在其整个运行周期中持续提供优质的服务。
PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab工艺系统而开发的最新智能软件解决方案。
● 对响应系统出色的控制水平
● 最大化系统性能与工艺性能
● 多级别软件配置以匹配用户需求
● 全新的视觉布局与设计界面
PlasmaPro 800 PECVD
PlasmaPro 800 RIE/PE
PlasmaPro 800 RIE