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高蚀刻速度、高选择性、低损伤加工、出色的轮廓控制。独立控制底层直流偏置
提供应用过程中化学刻蚀、等离子刻蚀和离子诱导刻蚀的既简单又经济的解决方案，包括故障分析
适用于多种薄膜 高质量钝化和高密度掩膜的成熟技术
晶体管和射频设备在纳米级结构工程中具有独特的灵活能力，并提供可集群选项
先进等离子体加工解决方案的领先供应商牛津仪器今日宣布，与为互联网提供核心动力的先进光器件及混合光纤同轴网络产品龙头企业 —— Applied Optoelectronics Inc.（AOI，纳斯达克股票代码：AAOI）达成一项等离子体设备供应协议，将为后者位于得克萨斯州舒格兰市的工厂供应多套刻蚀及沉积集群系统。
牛津仪器公司（股票代码：OXIG）是化合物半导体领域先进的等离子体工艺解决方案的前沿供应商。我们正在Coherent公司主导的首个全自动化6英寸磷化铟（InP）晶圆光子器件制造中发挥关键作用。该项目由Coherent公司（纽约证券交易所代码：COHR）牵头开展，Coherent同时也是化合物半导体及高性能光网络解决方案领域的全球领先企业。
牛津仪器的原子层沉积（ALD）设备已安装在一家获奖的英国MicroLED提供商，以支持最新的消费者沉浸式现实产品和显示设备。
牛津仪器加快推动资格认证计划，2023年等离子抛光将迎来产能大提升
牛津仪器集团成员
公安机关备案号31010402003473
