PlasmaPro 100 Polaris

单晶圆刻蚀技术的进展

凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。

PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精湛的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。

PlasmaPro 100 Polaris专为刻蚀坚硬材料（如GaN，蓝宝石和SiC）所需要使用的腐蚀性化学气体而设计，可在最大直径200mm的晶圆上实现快速均匀刻蚀。

PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精湛的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。

主动冷却电极 - 在刻蚀过程中保持样品温度

高功率ICP源 - 产生高密度等离子体

可靠的硬件且易于维护 - 可保持长时间正常运转

磁场垫环 - 增强离子的控制和均匀性

静电压盘技术 - 适用于蓝宝石，以及蓝宝石和硅基的GaN

加热的腔室内衬 - 优化以减少腔壁沉积

先进的自动匹配单元（AMU） - 提供快速，高效和准确的匹配，确保工艺的高度精准重复性

牛津仪器致力于提供全方位、灵活且可靠的全球客户支持服务。我们将为您所拥有的系统在其整个运行周期中持续提供优质的服务。

PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab工艺系统而开发的最新智能软件解决方案。

● 对响应系统出色的控制水平

● 最大化系统性能与工艺性能

● 多级别软件配置以匹配用户需求

● 全新的视觉布局与设计界面

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