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Products


产品系列 (无选择)

ALD

  • Excellent process control
  • Superb thin film barrier properties
  • Virtually pin-hole free films

ALE

  • 高选择比
  • 低损伤
  • 出色的均匀性

DSiE

  • 高精度的刻蚀工艺
  • 高选择比
  • 高深宽比工艺

IBD

  • Multiple wafer handling options
  • Multiple mode functionality
  • Single wafer loadlock or cluster wafer handling

IBE

  • Multiple wafer handling options
  • Multiple mode functionality
  • Single wafer loadlock or cluster wafer handling

ICP Etching

  • 高密度
  • 低压力
  • 宽温度范围

ICPCVD

  • 高品质
  • 低损伤的薄膜
  • 宽温度范围

Nanoscale Growth

  • Cold wall design with showerhead
  • Excellent temperature uniformity
  • Up to 1200oC

PECVD

  • Excellent uniformity
  • High rate films
  • Excellent control of film properties

RIE Etching

  • Anisotropic dry etching
  • Fast and consistent etching
  • pumping capacity
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