Ionfab 300 IBD

Ion Beam Deposition Modes

• Ion beam sputter deposition (IBSD)
• Ion assisted sputter deposition (IASD)
• Reactive ion beam deposition (RIBD)

The Ionfab300 is available in standard or large chamber, tailored for both etch and deposition applications

Ionfab300 标准腔室

• 一种用于研究和生产型的紧凑型离子束刻蚀和沉积设备，配备最多两个（15cm）离子源用于刻蚀或沉积。 这使其能够沉积高达200mm尺寸的晶圆和对最大100mm 尺寸的晶圆进行刻蚀工艺的优化。

Ionfab300 大型腔室

• 在基本相同的系统体积下，具有较大的工艺腔室，可以刻蚀和沉积高达200mm尺寸的晶圆。 该设备配有一个30cm刻蚀离子源，可提供出色的刻蚀均匀性和工艺稳定性，是规模化生产的理想选择。