注：简化的工艺流程

牛津仪器等离子体技术在VCSELs解决方案中取得的成功技术之一是VCSELs的台面制备。从150mm晶圆上台面结构的掩膜形成到台面刻蚀，以及器件的加速寿命测试，我们对VCSEL台面的高精度制备进行了反复地验证。

VCSEL台面刻蚀后的均匀性好，侧壁光滑且具有超低Footing效应。该过程由全自动终点探测技术辅助完成，可对台面高度进行精确控制。

我们的VCSEL解决方案在帮助客户获得极佳产能的同时，实现卓越的电光性能。利用我们在等离子体处理方面的强大专业知识，让VCSEL制造商实现高质量、大批量的激光器制备。目前的解决方案已经在高达150mm的晶圆上得到验证，并且能够在200mm衬底上进行工艺处理。