近期网络研讨会

高速倾斜ALD：引入PlasmaPro ASP

往期网络研讨会

电力设备

可靠的常关型凹栅AlGaN/GaN MISHEMT制造

SiC：从基底制备到高端功率应用的器件制造

优化GaN功率器件性能

如何对碳化硅(SiC)进行等离子体刻蚀以实现最高的器件性能

您是否拥有适用于您的GaN器件的最佳栅极介电层？

推动SiC革命：等离子体加工实现更佳性能

优化ALD高介电氧化物以实现新型应用

通过刻蚀制备SiC

量子

网络研讨会
推动量子技术发展的解决方案

网络研讨会
原子层刻蚀在量子技术等领域的进展和更多应用

网络研讨会
联合研讨会 | 量子器件的制备与表征

网络研讨会
用于量子器件的RIE和ALE工艺

高质量量子器件的制造工艺

量子技术领域的职业、市场和所需的技能

来自第九届印度纳米技术年度盛会的量子技术研讨会

钻石量子技术：工程NV中心器件的进展

用于量子技术的器件制备与表征

二维材料

开拓半导体行业的二维材料（由石墨烯旗舰项目的2D-EPL主办）

二维材料在电子应用中的生长和表征

石墨烯和二维材料的器件制备

原子层沉积（ALD）用于二维材料

石墨烯以外的二维材料

光电

刻蚀和沉积技术用于大批量生产可靠的 VCSEL 器件

用于InP器件和III-V材料的等离子工艺

基于InP的高质量刻蚀：利用受控工艺实现光滑表面

光能激发光：如何可靠地生产VCSEL器件

离子束沉积如何实现高功率激光器

半导体

原子尺度的表面平滑处理

量子、光子器件和二维材料

化合物半导体和光子学的等离子体加工解决方案

等离子体和沉积技术原理 [英文]

从半导体器件的制造到分析

半导体故障分析解决方案

增强现实技术

高RI材料的倾斜刻蚀

用于增强现实应用的大面积倾斜光栅干法刻蚀技术

生物医学

制造用于片上分析和诊断的生物医学器件

微机电系统

深硅刻蚀技术及其在器件制造中的应用

沪ICP备17031777号-1

公安机关备案号31010402003473