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产品系列 (无选择)

ALD

Excellent process control
Superb thin film barrier properties
Virtually pin-hole free films

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ALE

高选择比
低损伤
出色的均匀性

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DSiE

高精度的刻蚀工艺
高选择比
高深宽比工艺

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IBD

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

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Ion Beam

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

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ICP Etching

高密度
低压力
宽温度范围

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ICPCVD

高品质
低损伤的薄膜
宽温度范围

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Nanoscale Growth

Cold wall design with showerhead
Excellent temperature uniformity
Up to 1200^oC

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PECVD

Excellent uniformity
High rate films
Excellent control of film properties

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RIE Etching

Anisotropic dry etching
Fast and consistent etching
pumping capacity

带刻蚀点的原子层刻蚀

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先进等离子体加工解决方案的领先供应商牛津仪器今日宣布，与为互联网提供核心动力的先进光器件及混合光纤同轴网络产品龙头企业 —— Applied…

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聚焦 AI 下一代！牛津仪器交付 COHERENT 6 英寸磷化铟全自动加工设备

牛津仪器公司（股票代码：OXIG）是化合物半导体领域先进的等离子体工艺解决方案的前沿供应商。我们正在Coherent公司主导的首个全自动化6英寸磷化铟（InP）晶圆光子器件制造中发挥关键作用。该项目由Coherent公司（纽约证券交易所代码：COHR）牵头开展，Coherent同时也是化合物半导体及高性能光网络解决方案领域的全球领先企业。

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牛津仪器公司为英国重要的增强现实和先进消费类设备制造商提供用于 microLED的ALD技术

牛津仪器的原子层沉积（ALD）设备已安装在一家获奖的英国MicroLED提供商，以支持最新的消费者沉浸式现实产品和显示设备。

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产线增建产能提升

牛津仪器加快推动资格认证计划，2023年等离子抛光将迎来产能大提升

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