牛津仪器集团成员
扩展
牛津仪器
应用
产品
新闻
市场活动
联络我们
投资者关系 招聘岗位 新闻 市场活动 联络我们
投资者关系 招聘岗位
  1. Home Page
  2. Products

Products


产品系列 (无选择)
ALD

ALD

  • Excellent process control
  • Superb thin film barrier properties
  • Virtually pin-hole free films
选择
详细内容
ALE

ALE

  • 高选择比
  • 低损伤
  • 出色的均匀性
选择
详细内容
DSiE

DSiE

  • 高精度的刻蚀工艺
  • 高选择比
  • 高深宽比工艺
选择
详细内容
IBD

IBD

  • Multiple wafer handling options
  • Multiple mode functionality
  • Single wafer loadlock or cluster wafer handling
选择
详细内容
Ion Beam

Ion Beam

  • Multiple wafer handling options
  • Multiple mode functionality
  • Single wafer loadlock or cluster wafer handling
选择
详细内容
ICP Etching

ICP Etching

  • 高密度
  • 低压力
  • 宽温度范围
选择
详细内容
ICPCVD

ICPCVD

  • 高品质
  • 低损伤的薄膜
  • 宽温度范围
选择
详细内容
Nanoscale Growth

Nanoscale Growth

  • Cold wall design with showerhead
  • Excellent temperature uniformity
  • Up to 1200oC
选择
详细内容
PECVD

PECVD

  • Excellent uniformity
  • High rate films
  • Excellent control of film properties
选择
详细内容
RIE Etching

RIE Etching

  • Anisotropic dry etching
  • Fast and consistent etching
  • pumping capacity
选择
详细内容
带刻蚀点的原子层刻蚀

带刻蚀点的原子层刻蚀

选择
详细内容
所有产品系列
应用
业务部门

正在加载...

最新消息:

牛津仪器公司为英国重要的增强现实和先进消费类设备制造商提供用于 microLED的ALD技术

牛津仪器的原子层沉积（ALD）设备已安装在一家获奖的英国MicroLED提供商，以支持最新的消费者沉浸式现实产品和显示设备。

阅读全文 >
产线增建 产能提升

牛津仪器加快推动资格认证计划，2023年等离子抛光将迎来产能大提升

阅读全文 >
牛津仪器等离子抛光工艺助力SiC技术变革：为高品质外延级SiC开发的经济、高效、可持续性表面处理技术

我们将SiC技术向前推进了一步。新的晶圆抛光技术所带来的更加清洁、环保，更具成本竞争力的市场优势，使我们拥有最强大的200毫米SiC晶圆处理能力。一旦将其与其他SiC特有工艺技术相结合，将为电动汽车和可再生能源技术革命奠定基础。

阅读全文 >
牛津仪器公司和ITRI开发新型GaN结构器件

牛津仪器公司（Oxford Instruments）与其研究伙伴工业技术研究所（ITRI）共同开发了一种新的GaNHEMT器件架构，由嵌入AlGaN层的凹形绝缘栅结定义。这种新器件被称为GaN…

阅读全文 >

© 牛津仪器 2024

Website by Miramar Communications Ltd
沪ICP备17031777号-1 公安机关备案号31010402003473