Ion Beam

离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

牛津仪器离子束刻蚀（IBE）及沉积（IBD）系统是加工高质量材料的热门选择。我们的系统具有灵活的硬件选项，包括开放式装载、单晶圆load-lock和腔对腔自动装载系统等。系统的技术条件可根据应用进行针对性调整，从而实现更快、高度可重复的工艺结果。