卓越的离子束沉积工艺解决方案

离子束沉积（IBD）解决方案

离子束沉积（IBD）提供了一种极其灵活、通用的沉积技术。牛津仪器离子束沉积产品被科研和工业界用户广泛采纳，归因于它们能够制备出具有高质量、致密和表面光滑的沉积薄膜。

我们的系统为用户提供灵活的硬件选择，包括开放式装载和腔对腔自动装载。系统的技术条件可根据应用进行针对性调整，从而实现更快、高度可重复的工艺结果。

系统技术条件可根据应用进行针对性调整，从而实现更快、高度可重复的工艺结果。材料的折射率、吸收、散射、附着力和堆积密度等特性，可以通过改变离子束参数，如离子束密度和能量、相对于入射材料的基板角度和气体流量等来调节。

除了IBD技术，牛津仪器还提供离子束刻蚀（IBE）工艺解决方案。

离子束刻蚀（或离子铣）是通过在高真空腔中利用具有一定图案的掩模将带电粒子（离子）束定向引导至衬底上来实现的。它使高方向性的中性离子束能够控制侧壁轮廓，优化纳米图案化过程中的径向均匀性和结构形貌。

牛津仪器Ionfab离子束系统同时具备IBE和IBD技术。