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Nanofab

用于生长1D / 2D纳米材料和异质结构的CVD / PECVD工具。 Nanofab通过在线催化剂活化和严格的工艺控制,实现纳米材料的高性能生长。

  • 更佳的均匀性以及灵活的温度范围, 最高可达1200°C

  • 700°C、800°C或1200°C工作台可供选择

  • 样品尺寸可达200mm

  • 真空传送腔——快速更换样品

  • 冷壁设计并辅以可均匀输送气体/液体源前驱体的喷头

  • 可选的液体/固体源前驱体输送系统,用于生长MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料


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升级/配件

气柜 —— 包含额外的气体管线,提供更大的灵活性

涡轮分子真空泵 —— 提供泵送速度加快气体的流动速度

光学终点探测—— 实现更好工艺结果的重要工具

TEOS液位传感 —— 使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感

相关应用

纳米材料生长和表征制造光发射装置制造和表征生物微机电制造
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