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PlasmaPro 100 PECVD delivers excellent conformal deposition and low particle generation due to electrode temperature uniformity and shower head design in the electrode, allowing RF energy to produce the plasma. The high energy reactive species of plasma offers high deposition rates to achieve the desired thickness of the substrate while maintaining low pressure. Its dual frequency 13.56MHz and 100KHz power applied to upper electrode enables stress control and film densification
Delivers reactive species to the substrate, with a uniform high conductance path through the chamber allows a high gas flow to be used while maintaining low pressureRF powered showerhead with optimised gas delivery provides uniform plasma processing with LF/RF switching allowing precise control of film stressHigh pumping capacity gives wide process pressure window
通过均匀的高导通路径连接的腔室，将反应粒子输送到衬底
在维持低气压的同时，允许使用较高的气体通量
高度可变的下电极
充分利用等离子体的三维特性，在优秀的高度条件下，衬底厚度最大可达10mm
电极的温度范围宽（-150°C至+ 400°C），可通过液氮，液体循环制冷机或电阻丝加热
可选的吹排及液体更换单元可自动进行模式切换
由再循环制冷机单元供给的液体控温的电极
出色的衬底温度控制
射频功率加载在喷头上，同时优化气体输送
提供具有低频/射频切换功能的均匀的等离子体工艺，可精确控制薄膜应力
ICP源尺寸为65mm，180mm，300mm
确保200mm晶圆的工艺均匀性
高抽气能力
提供了更宽的工艺气压窗口
晶圆压盘与背氦制冷
更好的晶片温度控制
牛津仪器致力于提供全方位、灵活且可靠的全球客户支持服务。我们将为您所拥有的系统在其整个运行周期中持续提供优质的服务。
PTIQ是针对PlasmaPro和Ionfab工艺系统而开发的新智能软件解决方案。
● 对响应系统出色的控制水平
● 大幅提醒系统性能与工艺性能
● 多级别软件配置以匹配用户需求
● 全新的视觉布局与设计界面
了解更多气柜 —— 包含额外的气体管线，提供更大的灵活性
Logviewer软件 —— 数据记录软件允许实时绘图和事后分析
光学终点探测 —— 实现更佳工艺结果的重要工具
前级减流阀 —— 允许腔室缓慢的开始抽真空
涡轮分子真空泵 —— 提供泵送速度加快气体的流动速度
X20控制系统 —— 提供具有前瞻性的，灵活可靠的设备，增强系统“智能性”
AE Paramount射频发生器 —— 提供更高的可靠性和更好的等离子体稳定性
自动压力控制 —— 该控制器可确保快速准确的压力控制
双CM表开关 —— 具有通过单个压力控制阀使用两个不同范围电容压力计的能力
LN2自动切换装置 —— 使工作台的冷却液能够在液氮（LN2）与制冷机模式之间自动切换
TEOS液位传感 —— 使用安装在TEOS罐上的超声波液位传感器实现液位传感
宽温度范围电极 —— 提高工艺性能的重要设计改进
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